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哈默納科鍍層設(shè)備諧波CSD-20-100-2UH

哈默納科鍍層設(shè)備諧波CSD-20-100-2UH

更新時(shí)間:2024-06-16

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簡(jiǎn)要描述:
哈默納科鍍層設(shè)備諧波CSD-20-100-2UH可產(chǎn)生徑向彈性變形并帶有外齒的柔輪和一個(gè)裝在柔輪內(nèi)部、呈橢圓形、外圈帶有柔性滾動(dòng)軸承的波發(fā)生器。
品牌其他品牌供貨周期一個(gè)月以上
應(yīng)用領(lǐng)域電子名稱哈默納科
用途半導(dǎo)體、機(jī)器人、機(jī)械設(shè)備材質(zhì)
是否進(jìn)口

如果將工件直接作為離子轟擊的靶材,工件表面就會(huì)受到離子刻蝕。如果將工件放置在靶材附近,靶材原子就會(huì)濺射到工件表面而被濺射沉積吸附,哈默納科鍍層設(shè)備諧波CSD-20-100-2UH使工件表面鍍上一層靶材原的薄膜。如果離子能量足夠大并垂直工件表面撞擊時(shí),離子就會(huì)鉆進(jìn)工件表面,這就是離子的注入效應(yīng)。

   2.特點(diǎn)

   1功口工精度高,易精確控制。離子束可以通過(guò)離子光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行聚焦掃描,共聚焦光斑可達(dá)1um以內(nèi),因而可以精確控制尺寸范圍·離子束轟擊材料是逐層去除原子,所以離子刻蝕可以達(dá)到毫微米〔0.001E}m)級(jí)的加工精度·離子鍍膜可以控制在亞微米級(jí)精度,離子注入的深度和濃度也可極精確地控制。

  • 污染少。離子束加工在高真空中進(jìn)行,污染少哈默納科鍍層設(shè)備諧波CSD-20-100-2UH,特別適合于加工易氧化的金屬、合金及半導(dǎo)體材料。

   3)加工應(yīng)力、變形極小。離子束加工是一種原子級(jí)或分子級(jí)的微細(xì)加工,作為一種微觀作用,其宏觀壓力很小,適合于各類材料的加工,而且加工表面質(zhì)量高。

二、離子束加工設(shè)備

   離子束加工設(shè)備與電子束加工設(shè)備相似包括離子源、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和電源等四個(gè)部分。但對(duì)于不同的用途,離子束加工設(shè)備有所不同。


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